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    一種改進的CSF模型:用於SPH流體仿真的光滑表麵張力模擬(一)

    來源:合肥工業大學學報(自然科學版) 瀏覽 11 次 發布時間:2026-03-06

    摘要:傳統連續表麵力(continuumsurfaceforce,CSF)模型模擬流體表麵張力時,流體表麵的粒子受到的表麵張力都是法向力,很難保證流體表麵的光滑性,從而使得表麵張力模擬失真;此外,流體表麵的粒子不足還導致流體表麵密度計算精度降低,模擬穩定性差。文章在CSF模型的基礎上,對流體表麵施加切向力,使得流體表麵更加光滑;對邊界粒子進行密度修正,提高了密度計算精度和模擬的穩定性。仿真實驗結果表明,該方法模擬的流體表麵張力效果更好。


    表麵張力是流體的一種常見和重要的物理性質,隨著對流體模擬要求的提高,在諸如計算機圖形學領域和工程數值計算領域對表麵張力的模擬越來越受到重視。目前在光滑質子流體動力學(smoothedparGticlehydrodynamics,SPH)方法中引入表麵張力主要有2種模型:①基於粒子間相互作用力模型(interGparticleinteractionforce,IIF);②基於連續表麵力模型(continuumsurfaceforce,CSF)。自然界中流體表麵張力的產生是由於分子之間的相互作用力所致,IIF模型表麵張力就是通過類比分子之間的相互作用力來獲得表麵張力。處於流體內部的分子受到周圍流體分子的作用力,合力為0;而處於流體表麵的分子,隻受到流體內部分子的作用力,合力不為0,從而產生表麵張力。文獻用SPH方法模擬vander Waals流體,在狀態方程中引入凝聚力項,這種凝聚力實際上就是一種粒子之間的相互作用力;文獻隨後用這種方法研究液滴的形成過程,以及液滴的碰撞和合並過程。文獻在流體粒子之間引入了一種新的關於距離的餘弦函數力,這種力在粒子相互靠近時表現為排斥力,在粒子距離較遠時表現為吸引力;模擬結果表明這種力也能模擬表麵張力。文獻認為兩種不溶流體之間的表麵張力可以考慮為流體之間的排斥力,這種想法在分子水平上考慮是合理的,這種方法在SPH方法中實質上就是在不同相的粒子之間作用排斥力;並且模擬了液滴的變形過程,將模擬結果和流體體積(volumeoffluid,VOF)方法的模擬結果進行了對比,模擬效果差異很小,但模擬速度稍快。文獻分別提出了一種新的流體粒子間的作用力公式,並且進行了模擬,驗證了方法的可行性。但是IIF模型也存在著缺陷,利用IIF模型模擬流體表麵張力時,會發生流體粒子的非物理聚集、流體表麵形狀不規則等現象。


    CSF模型是將作用在液體界麵上的力轉換為周圍的體積內的力,這種方法可以看成是一種浸沒邊界方法,在基於網格的方法中被廣泛應用。文獻提出3種不同的方法將CSF模型引入SPH方法,用於計算表麵張力,並與二維基於網格的VOF方法進行對比,模擬結果和VOF方法模擬結果一致;文獻在多相流計算中,將CSF模型運用於多相流的表麵張力模擬,得到了比較理想的模擬結果;文獻基於SPH方法,利用CSF模型模擬了金屬液滴的噴塗和凝結過程;文獻通過改進的CSF模型模擬了液滴落地的場景以及不同固體邊界下的液滴流動模擬;文獻通過對表麵法向和表麵曲率進行修正,模擬方形液滴在表麵張力作用下的變形情況。在基於SPH方法中采用CSF模型對表麵張力進行模擬,一般先對每個流體粒子設置一個顏色值,然後利用這個顏色值進行表麵法向和表麵曲率的計算,表麵張力的方向和邊界法向一致,其大小和邊界曲率以及張力係數有關。


    在基於SPH方法的CSF流體表麵張力模型中,流體表麵張力都是垂直表麵的法向力,由於近似計算導致的計算誤差使得流體表麵張力的模擬很難達到自然界中的平滑狀態,以及滿足流體曲麵的最小化。此外,由於流體表麵的流體粒子數目較少,流體表麵的流體粒子密度求和時邊界截斷誤差較大,從而導致流體表麵張力模擬得不穩定。本文首先針對CSF流體表麵張力模擬的表麵不光滑問題,對流體表麵粒子施加切向力,從而使流體表麵更光滑;其次對邊界粒子進行密度修正,提高了流體表麵粒子密度計算精度,增加了流體表麵張力模擬的穩定性。


    1SPH方法和NGS方程


    1.1SPH方法


    SPH方法是一種無網格拉格朗日型的粒子方法,由文獻在1977年分別提出,起初用於解決三維開放空間的天體物理學問題,目前被廣泛應用於流體動力學、固體力學及其他工程學科各種問題的數值仿真。文獻首次將SPH方法引進圖形學領域,模擬可變形固體;文獻采用SPH方法來模擬水,為該方法用於模擬水等流體奠定了算法基礎。SPH作為一種無網格插值方法,是對模擬區域內的離散粒子的物理屬性進行插值計算,即A(x)=∑N j=1 mj ρj AjW(x-xj, h)(1)其中,A(x)為位置x處的物理屬性值;N為包含位置x的支持域中的粒子總數;mj、ρj、Aj、xj分別為位置x處支持域範圍內粒子j的質量、密度、物理屬性值和位置;W(x-xj, h)為光滑核函數;h為光滑核函數的支持域半徑。


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